Características estructurales del grupo de válvulas reductoras de presión de conmutación automática bilateral TKF-1:
Adopción de un reductor de presión de gas especial de dos etapas
Perilla de válvula de diafragma con ventana indicadora de interruptor
Configuración de válvula de seguridad opcional
La capacidad de expansión se puede lograr mediante el uso de accesorios múltiples.
Adopción de instalación montada en la pared
Dispositivo de alarma de presión opcional
Manómetro desmontable opcional
Parámetros técnicos del grupo de válvulas reductoras de presión de conmutación automática bilateral TKF-1:Presión de entrada máxima: 3000 PSI
Presión de salida: 0-25 PSI, 0-50 PSI, 0-100 PSI, 0-250 PSI
Presión de prueba: 1,5 veces la presión de entrada para pruebas de seguridad
Temperatura de funcionamiento: -40 °C ~ +100 °C
Tasa de fuga del regulador de presión: 2x10-8 atm cc/seg He CV: 0,08



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Indique la clasificación de protección IP, la capacidad máxima de carga estática de los bastidores de cilindros y las clasificaciones certificadas de zonas a prueba de explosiones (p. ej., ATEX/IECEx Zona 1). Especifique la compatibilidad del material con gases corrosivos (p. ej., Cl₂, NH₃). Escenarios de uso: entornos peligrosos como laboratorios químicos, almacenamiento de gas industrial o fábricas de semiconductores que requieren contención de fugas y aislamiento de fuentes de ignición.
Detalle la precisión de la regulación de presión (p. ej., ±0,5 % FS), los rangos de presión de entrada/salida (bar) y la capacidad de caudal (Nm³/h). Aclare el cumplimiento de la norma ISO 2503 para sistemas de gases médicos/de laboratorio. Escenarios de uso: Control de gas de precisión en instrumentos HPLC, máquinas de corte por láser o reactores biofarmacéuticos que requieren una presión estable en medio de fluctuaciones de flujo.
Indique la capacidad de retención de partículas (µm) de las válvulas de diafragma VCR, la frecuencia máxima de ciclos (ciclos/min) y la viscosidad admisible del fluido (cP). Incluya datos de la curva de temperatura/presión para los conjuntos limpiados con vapor. Escenarios de uso: Manejo de gases/líquidos de pureza ultra alta en el procesamiento de obleas de semiconductores, producción de vacunas o instalaciones nucleares que exigen cero contaminación.