El conjunto de válvula de bola doble TKF 5 para paneles de control de gas está diseñado para compradores que buscan conjuntos de válvulas reductoras de presión para el suministro de gas de alta pureza, sistemas de gas para procesos de semiconductores, paneles de gas de laboratorio, gabinetes de cilindros y proyectos de control de fluidos industriales. Consulte los detalles e imágenes del producto a continuación y compare los equipos de fluidos Kuzu relacionados para encontrar opciones de suministro compatibles.
Válvula de doble bola serie TKF-5 modelo:
Módulo terminal con válvula de bola doble + válvula reguladora de presión + válvula de tres vías + manómetro axial desmontable (presión de aire de admisión 25 MPa, presión de escape 1,6 MPa) + válvula de bola + panel de acero inoxidable) (tratamiento de desengrase y limpieza)
Módulo terminal con válvula de bola doble + válvula reguladora de presión + válvula de tres vías + manómetro axial desmontable (presión de aire de admisión 25 MPa, presión de escape 1,0 MPa) + válvula de bola + panel de acero inoxidable) (tratamiento de desengrase y limpieza)
Características estructurales de la válvula de doble bola serie TKF-5:
Adopción del reductor de presión especial de una sola etapa TKF-5 (tipo combinado) para pruebas de resistencia a la presión y detección de fugas de amoníaco.
2 manómetros de acero inoxidable, lectura clara
Adopción de instalación montada en la pared o en panel

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Sí. Visite la sección "Serie de Conmutación de Suministro de Gas" en nuestro sitio web. Descubra paneles de conmutación automatizados, colectores y sistemas de seguridad integrada que cumplen con la norma ISO 13485 para laboratorios e instalaciones médicas.
Indique la clasificación de protección IP, la capacidad máxima de carga estática de los bastidores de cilindros y las clasificaciones certificadas de zonas a prueba de explosiones (p. ej., ATEX/IECEx Zona 1). Especifique la compatibilidad del material con gases corrosivos (p. ej., Cl₂, NH₃). Escenarios de uso: entornos peligrosos como laboratorios químicos, almacenamiento de gas industrial o fábricas de semiconductores que requieren contención de fugas y aislamiento de fuentes de ignición.
Detalle la precisión de la regulación de presión (p. ej., ±0,5 % FS), los rangos de presión de entrada/salida (bar) y la capacidad de caudal (Nm³/h). Aclare el cumplimiento de la norma ISO 2503 para sistemas de gases médicos/de laboratorio. Escenarios de uso: Control de gas de precisión en instrumentos HPLC, máquinas de corte por láser o reactores biofarmacéuticos que requieren una presión estable en medio de fluctuaciones de flujo.
Indique la capacidad de retención de partículas (µm) de las válvulas de diafragma VCR, la frecuencia máxima de ciclos (ciclos/min) y la viscosidad admisible del fluido (cP). Incluya datos de la curva de temperatura/presión para los conjuntos limpiados con vapor. Escenarios de uso: Manejo de gases/líquidos de pureza ultra alta en el procesamiento de obleas de semiconductores, producción de vacunas o instalaciones nucleares que exigen cero contaminación.