El terminal de gabinete de ventilación TKF 5 6 para sistemas de gas de laboratorio está diseñado para compradores que comparan conjuntos de válvulas reductoras de presión terminales para suministro de gas de alta pureza, sistemas de gas para procesos de semiconductores, paneles de gas de laboratorio, gabinetes de cilindros y proyectos de control de fluidos industriales. Revise los detalles e imágenes del producto a continuación y luego compare equipos de fluidos Kuzu relacionados para encontrar opciones de suministro compatibles.
Características estructurales del terminal del armario de ventilación TKF-5-6:
Mediante la adopción de un reductor de presión especial de una sola etapa TKF-5-6 con una estructura combinada de válvula reductora de presión y válvula de diafragma, se ha sometido a pruebas de presión y detección de fugas de amoníaco;
Manómetro de acero inoxidable de 30 cm, lectura clara;
Instalación mediante campana extractora;
Conexión de salida de aire (opcional).

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Indique la clasificación de protección IP, la capacidad máxima de carga estática de los bastidores de cilindros y las clasificaciones certificadas de zonas a prueba de explosiones (p. ej., ATEX/IECEx Zona 1). Especifique la compatibilidad del material con gases corrosivos (p. ej., Cl₂, NH₃). Escenarios de uso: entornos peligrosos como laboratorios químicos, almacenamiento de gas industrial o fábricas de semiconductores que requieren contención de fugas y aislamiento de fuentes de ignición.
Detalle la precisión de la regulación de presión (p. ej., ±0,5 % FS), los rangos de presión de entrada/salida (bar) y la capacidad de caudal (Nm³/h). Aclare el cumplimiento de la norma ISO 2503 para sistemas de gases médicos/de laboratorio. Escenarios de uso: Control de gas de precisión en instrumentos HPLC, máquinas de corte por láser o reactores biofarmacéuticos que requieren una presión estable en medio de fluctuaciones de flujo.
Indique la capacidad de retención de partículas (µm) de las válvulas de diafragma VCR, la frecuencia máxima de ciclos (ciclos/min) y la viscosidad admisible del fluido (cP). Incluya datos de la curva de temperatura/presión para los conjuntos limpiados con vapor. Escenarios de uso: Manejo de gases/líquidos de pureza ultra alta en el procesamiento de obleas de semiconductores, producción de vacunas o instalaciones nucleares que exigen cero contaminación.